新闻中心

EEPW首页 > EDA/PCB > 业界动态 > ASML第二台High-NA设备,即将导入英特尔奥勒冈厂

ASML第二台High-NA设备,即将导入英特尔奥勒冈厂

作者: 时间:2024-08-06 来源:科技新报 收藏

正接收第二台耗资3.5亿欧元(约3.83亿美元)的新High NA EUV设备。根据8/1财报电话会议纪录,CEO Pat Gelsinger表示,12月开始接收第一台大型设备,安装时间需要数月,预计可带来新一代更强大的电脑英文。

本文引用地址://www.cghlg.com/article/202408/461714.htm

Gelsinger在电话中指出,第二台High NA设备即将进入在奥勒冈州的厂房。

由于英特尔财报会议后股价表现不佳,因此这番话并未引起注意。

高阶主管7月曾表示,该公司已开始出货第二台High NA设备给一位未具名客户,今年只记录第一台的收入。不过,客户何时采用仍存在一些疑问。

已获得十多台High NA机器的订单,客户包括台积电、三星、英特尔、美光及SK海力士。英特尔计划2027年前将此技术用于量产,台积电也将于今年收到设备,但还没透露何时投入生产。

ASML CEO Christophe Fouquet于7月17日表示,DRAM存储器英文制造商,这可能意指三星、SK海力士或美光,可能2025或2026年开始使用High NA设备。



评论


相关推荐

技术专区

关闭