ASML：EUV光刻机已近极限 追赶技术还是另辟蹊径？

ASML首席财务官达森（Roger Dassen）表示，EUV技术路线发展受欧美限制，且光刻机已接近技术极限，此一技术路线前景不明。积极寻求突破的中国厂商是持续投入资源突破现有限制进行技术跟随？还是将资源另辟蹊径寻找新的技术路径？将面临艰难的抉择。

据《芯智讯》报导，台积电已经订购了High NA EUV（高数值孔径极紫外光）光刻机，ASML与台积电的商业谈判即将结束，预计在第2季度或第3季度开始获得大量 2nm芯片制造相关设备订单。ASML预测其设备的市场需求有望一路走强至2026年，这主要是受益于各国政府推动的芯片制造当地化策略。

报导说，High NA EUV光刻机的价格相当昂贵，一台要价超过3.5亿欧元。台积电业务开发资深副总裁张晓强（Kevin Zhang）日前表示，由于定价过高，台积电预计于2026年下半量产的A16（1.6nm）制程，不一定需要用到High NA EUV光刻机，这要看如何在经济与技术间取得最佳的平衡而定。

目前最为积极引入High NA EUV光刻机则是英特尔，其是第一家订购并完成交付安装的晶圆制造商，目前英特尔已经开始进行Intel 18A工艺的测试，以积累相关经验，后续将会被用于Intel 14A的量产。

报导指出，ASML已接获数十台High NA EUV光刻机的订单，其中大部分被英特尔预定，此外三星、台积电、SK海力士、美光也有订购。但是由于技术本身和生态系统的复杂性，ASML 认为在可预见的未来，其EUV技术领域不会面临来自中国光刻设备公司上海微电子（SMEE）或华为的竞争。

根据数据显示，ASML先进的标准型EUV光刻机就拥有超过10万个零件，涉及到上游5000多家供货商。它是所有半导体制造设备中技术含量最高的设备，目前全世界没有一家企业、甚至可以说没有一个国家可以独立完成EUV光刻机的完整制造。

目前ASML仍然是全球唯一的EUV光刻机供货商，High NA EUV光刻机的发展已经接近当前技术的极限，下一代的0.75 NA的Hyper NA EUV光刻机理论上是可以实现，但是会面临更多更复杂的技术问题，同时成本也更为惊人。

报导分析说，在ASML现有光刻机技术路线即将走向尽头的背景之下，对于中国厂商来说在现有技术路线对于ASML之间的差距可能将不会继续加速扩大，这有利于大陆厂商的技术追赶。

但是，在EUV技术路线发展受欧美限制，且该技术路线前景灰暗的情况下，中国大陆厂商是持续投入资源突破现有限制进行技术跟随，还是考虑投入资源另辟蹊径寻找新的技术路径？将会面临困难的抉择。比如佳能去年就推出了面向先进制程的奈米压印设备，但该技术路线能否成功还有待市场检验。